S2D-18B2-0808-150-P Finisar
Hersteller: Finisar
2D Silicon Nanostamp: Rectangular post, Period 600 nm, Etch Depth 150 nm, Feature Width 275 nm, Size 8.0 x 8.3 mm
2D Silicon Nanostamp: Rectangular post, Period 600 nm, Etch Depth 150 nm, Feature Width 275 nm, Size 8.0 x 8.3 mm
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Technische Details S2D-18B2-0808-150-P Finisar
Description: 2D SILICON NANOSTAMP: RECTANGULA, Packaging: Bulk, Length: 0.327" (8.30mm), Width: 0.315" (8.00mm), Part Status: Active, Number of Layers: 1, Thickness - Theoretical: 0.7mm, Substrate: Silicon.
Weitere Produktangebote S2D-18B2-0808-150-P
| Foto | Bezeichnung | Hersteller | Beschreibung |
Verfügbarkeit |
Preis |
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| S2D-18B2-0808-150-P | Hersteller : Coherent |
Description: 2D SILICON NANOSTAMP: RECTANGULA Packaging: Bulk Length: 0.327" (8.30mm) Width: 0.315" (8.00mm) Part Status: Active Number of Layers: 1 Thickness - Theoretical: 0.7mm Substrate: Silicon |
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| S2D-18B2-0808-150-P | Hersteller : II-VI / Finisar | Labels and Industrial Warning Signs 2D Silicon Nanostamp: Rectangular post, Period 600 nm, Etch Depth 150 nm, Feature Width 275 nm, Size 8.0 x 8.3 mm |
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